近年来，苹果一直在屏幕设计上持续创新，努力实现其无挖孔无边框的“一整块屏幕”目标。
从iPhone X的刘海屏，到iPhone 14 Pro的灵动岛，再到iPhone 16 Pro的超窄边框，都让iPhone屏幕的完整性进一步提升。
专利中还提到了通过选择性地对覆盖层进行图案化处理来优化屏下传感器的性能，覆盖层可以是基板保护层、栅极电介质层、无机钝化层或有机像素定义层等。
根据目前的爆料，这套屏下Face ID方案最快会在明年的iPhone 18系列上得到应用。
届时，iPhone 18系列有望告别现在的灵动岛药丸屏，转而以单挖孔屏的形态呈现。
这意味着，iPhone 18系列的屏幕上方可能只保留一个用于前置摄像头的微小挖孔。
届时Face ID相关组件将全部隐藏于屏幕下方，其整体效果或类似于当前主流的安卓手机的屏幕设计。
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